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大尺寸原子层沉积设备

大尺寸原子层沉积系统是由中心自主研发(201610971593.5等)的产品,可满足12英寸(300 mm)硅片等批量加工需求以及大型零部件的纳米薄膜加工需求。系统拥有5个可加热液态源,可制备多种二元或三元复合纳米薄膜,衬底温度可加热至400℃,满足多种加工工艺需求,系统采用PLC全自动控制,可长期稳定可靠连续使用。

性能指标

1. 衬底尺寸:100 - 300 mm;

2. 衬底数量:可批量加工;

3. 衬底温度:25℃ - 400℃; ±0.2℃;

4. 前驱体源:5个液态源,其中可加热源2个;

5. 沉积的均匀性:<±1%;

6. PLC全自动控制。


应用范围

可应用于微电子、太阳能、光电、光学、防腐等领域。

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