大尺寸原子层沉积系统是由中心自主研发（ZL201610314085.X等）的产品，可满足12英寸（300 mm）硅片等批量加工需求以及大型零部件的纳米薄膜加工需求。系统拥有5个可加热液态源，可制备多种二元或三元复合纳米薄膜，衬底温度可加热至400℃，满足多种加工工艺需求，系统采用PLC全自动控制，可长期稳定可靠连续使用。
1. 衬底尺寸：100 - 300 mm；
2. 衬底数量：可批量加工；
3. 衬底温度：25℃ - 400℃; ±0.2℃；
4. 前驱体源：5个液态源，其中可加热源2个；
5. 沉积的均匀性：<±1%；
6. PLC全自动控制。
可应用于微电子、太阳能、光电、光学、防腐等领域。
