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原子层沉积高性能纳米透明防腐薄膜制备技术

原子层沉积(ALD)高性能纳米透明防腐薄膜制备技术是中心自主开发(ZL201110030298.7)的一种通过原子层循环沉积生长纳米薄膜的技术,该技术在贵重金属的表面防腐上具有显著优势。

技术特点

1. 灵活度高:可根据不同表面和形状的防腐要求,选择所需沉积的材料和厚度,实现均匀沉积,达到表面高效防腐;

2. 成膜均匀:避免了常规PVD、CVD技术带来的无法在不规则表面形成均匀成膜的缺陷;

3. 防护能力强:沉积的薄膜致密度高、针孔少、透明性好,能充分隔绝腐蚀性、强氧化性等物质,起到全方位防护的作用;

4. 颜色可调、持久性强:通过精确控制沉积薄膜的厚度和光学常数,能调变沉积层表面不同的光泽度和颜色,且颜色持久不褪色,可大幅度提升金属制品防腐外观的可视效果,增加防腐制品的附加值;

5. 操作简单:薄膜形成所需的温度低、原料消耗少;薄膜沉积工艺设备全自动化控制,稳定可靠,单位生产成本低,节能环保,具备规模化产业推广的前景。


应用领域

防腐领域:可用于各类贵重金属、金银首饰、纪念币,电子器件连接处以及精密零部件的表面防腐。

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