原子层沉积（ALD）高性能纳米透明防腐薄膜制备技术是中心自主开发（ZL201610398336.7）的一种通过原子层循环沉积生长纳米薄膜的技术，该技术在贵重金属的表面防腐上具有显著优势。
1. 灵活度高：可根据不同表面和形状的防腐要求，选择所需沉积的材料和厚度，实现均匀沉积，达到表面高效防腐；
2. 成膜均匀：避免了常规PVD、CVD技术带来的无法在不规则表面形成均匀成膜的缺陷；
3. 防护能力强：沉积的薄膜致密度高、针孔少、透明性好，能充分隔绝腐蚀性、强氧化性等物质，起到全方位防护的作用；
4. 颜色可调、持久性强：通过精确控制沉积薄膜的厚度和光学常数，能调变沉积层表面不同的光泽度和颜色，且颜色持久不褪色，可大幅度提升金属制品防腐外观的可视效果，增加防腐制品的附加值；
5. 操作简单：薄膜形成所需的温度低、原料消耗少；薄膜沉积工艺设备全自动化控制，稳定可靠，单位生产成本低，节能环保，具备规模化产业推广的前景。
防腐领域：可用于各类贵重金属、金银首饰、纪念币，电子器件连接处以及精密零部件的表面防腐。
